파나소닉 메탈 메쉬 개발 배경

일반적으로 수십  Ω/sq.~ 수백  Ω/sq.~ 의 저항값을 가지는

ITO (Indium Tin Oxide)에서 최근 요구되고 있는

저저항화 수요에 대응하기 위해서는 자체의 후막화가

필요하지만, 투과율 저하 및 황변(색의 변화) 등의 모순이

발생합니다.

이러한 문제를 해결하기 위한 방법으로

ITO 대체 소재의 개발 및 활용이 추진되고 있습니다.

파나소닉에서는 ITO의 대안으로 메탈 메쉬를 개발해 왔습니다.

메탈메쉬의 일반적인 에칭 공법에서는

저저항화(메탈 두께)와 세선화의 양립이 어려워

저저항화로 대형화는 가능하지만

배선 폭이 커져 투과율이 부족했습니다.

또한, 에칭 공법 특유의 메쉬 배선 교차지점의

금속 잔여물은 외관 특성 저하의 요인이 되기도 했습니다.

파나소닉은 업계 최초^※의 독자적인 롤투롤 공법을 사용하여,

양면 배선용 투명 전도성 필름 메탈 메쉬를 개발했습니다.

독자적인 공법으로 높은 배선 종횡비를 실현하고

 저저항과 높은 투과율을 동시에 구현한 투명 전도성 필름을 

양산하고 있습니다. 

※ : 2022년 2월 16일 현재 당사 조사